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槽式湿法制程设备

全自动GaN去光阻清洗机

生产主线为:上料台、超声循环溢流槽1、循环溢流槽2、循环溢流槽3、QDR槽4、QDR槽5、下料台,共5个制程工位。本设备电器控制部分关键件均采用进口优质件,性能可靠,使用寿命长;及背部设有吸风口,为防止污染空气,用户需外接风管抽风。本机台是一个人机界面(触摸屏)加PLC控制的自动控制系统,操作者只须将清洗花篮放置于上料工位上,再由PLC控制机械手将花篮输送到各个工位,按照事先输入的程序对晶片进行各工艺处理。
加工对象:蓝宝石基底的GaN、砷化镓基底的AlGaInP晶片和PSS衬底;

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